对于euv光刻机的研发，困难很多，主要还是在光源这块。
陈怀庆并不急迫，也没有想着说，euv光刻机在短时间就能够搞定。
他心理的预期，在二十年内研发成功，那就完全的没有问题。
毕竟，euv光刻机主要用于10纳米以下。
但是也并不是就只有euv光刻机能够实现10纳米以下制程，像是duv光刻机，最高能够实现7纳米制程节点。
甚至陈怀庆还知道，就民用产品而言，14纳米的芯片，性能上面已经够用，甚至可以说，在性能上还过剩。
依照现在墨塔微电的发展形势来讲，陈怀庆不觉得说，以后掌握14纳米光刻机技术有任何的问题。
就技术而言，墨塔微电在全球光刻机领域，也是第一梯队的。
特别是后道光刻机领域，墨塔微电属于全球第一的存在，其他光刻机企业根本就没法和墨塔微电进行竞争。
优势太过于明显了。
技术优势和价格优势，这两样可是属于核心优势，在市场竞争当中直接打得对手毫无还手之力。
很顺理成章的就把市场给占了。
八九十年代的时候，全球光刻机企业有数十家之多，而到了现在，已经就只剩下数家。
主要在霓虹、华国、北美和欧洲。
至于说全球其他地区，已经在这块没有资格了。
技术门槛和技术壁垒都太高了，根本就不是一般国家，能够玩得转的东西。
注意，这里不是说的企业！
企业很强，但是在国家面前，再强的企业也很弱。
第四代深紫外光(duv)arf光源已经研发成功了，现在就剩下不断的进行完善。
墨塔微电的arf光源光刻机研发进展的也相当顺利。能够如此的顺利，和墨塔微电集合了整个华国的最尖端人才，以及获得国家力量全力支持有着决定性的关系。
另外还有一点，就是最近十几年时间里面，墨塔微电联合各所大学，对人才进行了专项的培养。
大量的优秀理工科大学生毕业生源源不断的加入到墨塔微电。
“第四代光源光刻机预计能够将芯片制程工艺推进到65纳米。”
意味着，在未来五年时间里面，华国在半导体领域，都不用担心被人超越，一直保持在全球第一梯队上面。
“老板，这是我们浸润式duv光刻机样机。”
此时，全球范围内，现在主要的都是干式光刻机，以空气为介质，193nm波长的光线，直接进行光刻。
而浸润式技术即在光刻机中，采用水为介质，让193nm波长的光线，进入水中进行折射后，让波长变成132纳米，从而实现从45nm-10nm级别的光刻。
墨塔微电在之前的时候，自然也是搞的干式光刻机，而在干式光刻机领域，康尼和能佳属于超级巨头。
墨塔微电只能够排在第三位。
至于说阿斯麦此时还只是一家小公司。
上一世，阿斯麦就靠着浸润式duv光刻机将康尼和能佳给彻底的踩在脚下的。
euv光刻机的研发成功，才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。
“浸润式技术加上第四代光源，我们预计，能够让光刻制程推进到28纳米甚至10纳米以下。”
陈怀庆听着介绍，不由的捏着下巴，上一世的时候，目光都盯着euv光刻机去了，还真的没太怎么注意，euv光刻机之前，光刻机到底是什么。
但是陈怀庆知道，euv光刻机在全球的出货量并不算大，或者说能够用到euv光刻机的芯片产品，还是很少。
价格昂贵，消费者有些接受不了。
而且当时的时候，民用电脑、手机，都是出现了性能过剩的情况。
像是手机，256g的内存，这么大的内存，拿来做什么啊？
除非，是天天拍照，照片还不删除。
即使如此，也很难存满。 一张照片算3m，256g也是能够存上8万多张照片。
考虑到手机内其他程序需要的内存，打个对折，就4万张照片。
平均每天拍上10张照片，一年就是3650张照片，拍4万张照片得要10年。
一部手机，很显然用不到十年。
手机硬件性能过剩，过剩得还挺多。
陈怀庆翻看着浸润式技术的资料，这条技术路线是在1987年的时候由林本建提出来的。
但是在很长时间里面，大家并没有对此有太多的关注或者考虑。
很简单的原因，干式光刻机依旧在高速发展。
直到最近，才是陷入到了一个颈瓶，推进难度稍稍变大了一些。
但是此时大家并没有改弦易辙的想法，157纳米波长的研发在之前已经投入了那么多钱进去，想要更改技术路线，意味着什么，根本就不用多说。
之前投入的钱，全部都打水漂了。
这个时候，谁敢做决定。
再者说了，霓虹的企业，那尿性谁都是知道的。
即使发现有问题，一时半会也转不了弯。
或者说，在其他人没有做出更好的之前，霓虹的企业自己即使发现了错误，他们也会沿着错误的技术路线继续狂奔。
死磕！
就死磕。
因为什么？
这条技术路线上面，不是关系一个两个人，而是一串的人。
在霓虹，权威是不容质疑的。
而在墨塔微电，权威就是用来质疑的！
意识到浸润式技术的技术难度更低、更容易实现之后，墨塔微电就迅速的投入了这项技术的研发。
并且和这项技术的提出者取得联系，邀请他加入项目。
但有的时候，邀请并不是无往不利的。
没有邀请到林本建，虽然可惜了点，但陈怀庆也没有在意。
天下英才何其多，不可能每一位都在吾彀。
墨塔微电现在已经是一家成熟的企业，陈怀庆除了要求继续坚持研发投入和提升国产化率之外，其他的倒是并没有说什么。
对于国产化率，实际上已经不用陈怀庆催了。
因为墨塔微电上下，可是感受到了被限制的滋味。
以前的时候，是一些先进设备不卖，这也已经习惯了。
可连零件都要限制，确实让很多人都没有想到的事情。
有了切肤之痛之后，大家算是实实在在的放弃了幻想，准备战斗。
此时的墨塔微电，主要的竞争对手，还是康尼和能佳两家公司。
既然作为竞争对手，那么自然就是得要收集情报。
陈怀庆并不太关注康尼和能佳，而是更加关注阿斯麦。
英特尔等几家公司，将宝压在了阿斯麦身上。
实际上，墨塔微电也是试着要加入他们的euv研究计划，都进行了一番实质性谈判。
只不过阿斯麦更加能做狗，而墨塔微电要做人，所以谈判自然没有进行下去。
陈怀庆并不急迫，也没有想着说，euv光刻机在短时间就能够搞定。
他心理的预期，在二十年内研发成功，那就完全的没有问题。
毕竟，euv光刻机主要用于10纳米以下。
但是也并不是就只有euv光刻机能够实现10纳米以下制程，像是duv光刻机，最高能够实现7纳米制程节点。
甚至陈怀庆还知道，就民用产品而言，14纳米的芯片，性能上面已经够用，甚至可以说，在性能上还过剩。
依照现在墨塔微电的发展形势来讲，陈怀庆不觉得说，以后掌握14纳米光刻机技术有任何的问题。
就技术而言，墨塔微电在全球光刻机领域，也是第一梯队的。
特别是后道光刻机领域，墨塔微电属于全球第一的存在，其他光刻机企业根本就没法和墨塔微电进行竞争。
优势太过于明显了。
技术优势和价格优势，这两样可是属于核心优势，在市场竞争当中直接打得对手毫无还手之力。
很顺理成章的就把市场给占了。
八九十年代的时候，全球光刻机企业有数十家之多，而到了现在，已经就只剩下数家。
主要在霓虹、华国、北美和欧洲。
至于说全球其他地区，已经在这块没有资格了。
技术门槛和技术壁垒都太高了，根本就不是一般国家，能够玩得转的东西。
注意，这里不是说的企业！
企业很强，但是在国家面前，再强的企业也很弱。
第四代深紫外光(duv)arf光源已经研发成功了，现在就剩下不断的进行完善。
墨塔微电的arf光源光刻机研发进展的也相当顺利。能够如此的顺利，和墨塔微电集合了整个华国的最尖端人才，以及获得国家力量全力支持有着决定性的关系。
另外还有一点，就是最近十几年时间里面，墨塔微电联合各所大学，对人才进行了专项的培养。
大量的优秀理工科大学生毕业生源源不断的加入到墨塔微电。
“第四代光源光刻机预计能够将芯片制程工艺推进到65纳米。”
意味着，在未来五年时间里面，华国在半导体领域，都不用担心被人超越，一直保持在全球第一梯队上面。
“老板，这是我们浸润式duv光刻机样机。”
此时，全球范围内，现在主要的都是干式光刻机，以空气为介质，193nm波长的光线，直接进行光刻。
而浸润式技术即在光刻机中，采用水为介质，让193nm波长的光线，进入水中进行折射后，让波长变成132纳米，从而实现从45nm-10nm级别的光刻。
墨塔微电在之前的时候，自然也是搞的干式光刻机，而在干式光刻机领域，康尼和能佳属于超级巨头。
墨塔微电只能够排在第三位。
至于说阿斯麦此时还只是一家小公司。
上一世，阿斯麦就靠着浸润式duv光刻机将康尼和能佳给彻底的踩在脚下的。
euv光刻机的研发成功，才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。
“浸润式技术加上第四代光源，我们预计，能够让光刻制程推进到28纳米甚至10纳米以下。”
陈怀庆听着介绍，不由的捏着下巴，上一世的时候，目光都盯着euv光刻机去了，还真的没太怎么注意，euv光刻机之前，光刻机到底是什么。
但是陈怀庆知道，euv光刻机在全球的出货量并不算大，或者说能够用到euv光刻机的芯片产品，还是很少。
价格昂贵，消费者有些接受不了。
而且当时的时候，民用电脑、手机，都是出现了性能过剩的情况。
像是手机，256g的内存，这么大的内存，拿来做什么啊？
除非，是天天拍照，照片还不删除。
即使如此，也很难存满。 一张照片算3m，256g也是能够存上8万多张照片。
考虑到手机内其他程序需要的内存，打个对折，就4万张照片。
平均每天拍上10张照片，一年就是3650张照片，拍4万张照片得要10年。
一部手机，很显然用不到十年。
手机硬件性能过剩，过剩得还挺多。
陈怀庆翻看着浸润式技术的资料，这条技术路线是在1987年的时候由林本建提出来的。
但是在很长时间里面，大家并没有对此有太多的关注或者考虑。
很简单的原因，干式光刻机依旧在高速发展。
直到最近，才是陷入到了一个颈瓶，推进难度稍稍变大了一些。
但是此时大家并没有改弦易辙的想法，157纳米波长的研发在之前已经投入了那么多钱进去，想要更改技术路线，意味着什么，根本就不用多说。
之前投入的钱，全部都打水漂了。
这个时候，谁敢做决定。
再者说了，霓虹的企业，那尿性谁都是知道的。
即使发现有问题，一时半会也转不了弯。
或者说，在其他人没有做出更好的之前，霓虹的企业自己即使发现了错误，他们也会沿着错误的技术路线继续狂奔。
死磕！
就死磕。
因为什么？
这条技术路线上面，不是关系一个两个人，而是一串的人。
在霓虹，权威是不容质疑的。
而在墨塔微电，权威就是用来质疑的！
意识到浸润式技术的技术难度更低、更容易实现之后，墨塔微电就迅速的投入了这项技术的研发。
并且和这项技术的提出者取得联系，邀请他加入项目。
但有的时候，邀请并不是无往不利的。
没有邀请到林本建，虽然可惜了点，但陈怀庆也没有在意。
天下英才何其多，不可能每一位都在吾彀。
墨塔微电现在已经是一家成熟的企业，陈怀庆除了要求继续坚持研发投入和提升国产化率之外，其他的倒是并没有说什么。
对于国产化率，实际上已经不用陈怀庆催了。
因为墨塔微电上下，可是感受到了被限制的滋味。
以前的时候，是一些先进设备不卖，这也已经习惯了。
可连零件都要限制，确实让很多人都没有想到的事情。
有了切肤之痛之后，大家算是实实在在的放弃了幻想，准备战斗。
此时的墨塔微电，主要的竞争对手，还是康尼和能佳两家公司。
既然作为竞争对手，那么自然就是得要收集情报。
陈怀庆并不太关注康尼和能佳，而是更加关注阿斯麦。
英特尔等几家公司，将宝压在了阿斯麦身上。
实际上，墨塔微电也是试着要加入他们的euv研究计划，都进行了一番实质性谈判。
只不过阿斯麦更加能做狗，而墨塔微电要做人，所以谈判自然没有进行下去。